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            AMC監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
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            ABB OA-ICOS? GLA231

            ABB OA-ICOS? GLA231

            ABB OA-ICOS 氣體分析儀采用離軸積分腔輸出光譜(OAICOS)技術(shù),能夠高精度、高靈敏度地測(cè)量HF、HCL、NH3及H2O等氣體,適用于半導(dǎo)體晶圓廠的工藝流程檢測(cè)、氣相沉積室監(jiān)測(cè)及FOUP監(jiān)測(cè)。其多氣體配置、亞ppb級(jí)濃度測(cè)量能力及優(yōu)化的數(shù)據(jù)處理···...
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            詳情介紹

            ABB OA-ICOS 氣體分析儀采用離軸積分腔輸出光譜(OAICOS)技術(shù),能夠高精度、高靈敏度地測(cè)量HF、HCL、NH3及H2O等氣體,適用于半導(dǎo)體晶圓廠的工藝流程檢測(cè)、氣相沉積室監(jiān)測(cè)及FOUP監(jiān)測(cè)。其多氣體配置、亞ppb級(jí)濃度測(cè)量能力及優(yōu)化的數(shù)據(jù)處理使其具備高性能和高安全性,支持Modbus TCP輸出和遠(yuǎn)程控制功能,操作簡(jiǎn)便,維護(hù)需求低。


            ABB OA-ICOS GLA231在線ICOS方法酸堿分析儀(離軸激光)

             

            功能和優(yōu)勢(shì)


            ? 支持 HF、HCI、NH3 的單氣體或多氣體配置

            ? 提供高精度、準(zhǔn)確的 H2O 測(cè)量結(jié)果

            ? 提供 0-5V 和 4-20 mA 模擬輸出(標(biāo)配),可選Modbus TCP

            ? 優(yōu)化數(shù)據(jù)處理,在測(cè)量亞 ppb 級(jí)別濃度時(shí),實(shí)現(xiàn)優(yōu)異性能

            ? 提供觸控?cái)?shù)字顯示屏,顯示氣體濃度和分析儀的狀態(tài)

            ? 提供主要密碼保護(hù),確保分析儀和數(shù)據(jù)安全

            ? 優(yōu)化的零氣性能,確保可靠地確認(rèn)過程事件

            ? 提供可定制的校準(zhǔn)套件和性能認(rèn)證文件包

            ? 堅(jiān)固耐用;所需的維護(hù)工作少且花費(fèi)較低

            ? 可輕松更換長(zhǎng)期受到污染的部件(過濾器)和正常老化部件(泵隔膜)

            ? 服務(wù)工程師可現(xiàn)場(chǎng)診斷并更換其他大多數(shù)部件

            ? 鏡面清潔可現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行,無需在工廠費(fèi)時(shí)維修

             

            技術(shù)參數(shù)

            GLA231-EAA

            項(xiàng)目(氣體)NH?H?O
            精度 (1σ)<1ppb (1秒)
            <0.3 ppb (10秒)
            <0.1 ppb (100秒)
            <50 ppm (1秒)
            <20 ppm (10秒)
            <10 ppm (100秒)
            檢測(cè)限 (LOD)0.3 ppb (100秒)50 ppm (100秒)
            準(zhǔn)確性 *±0.3 ppb
            或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn)
            >7,000 ppm
            = 1% FSD
            不同分析儀的結(jié)果差異
            (相對(duì)于平均值,10秒)
            ±0.4 ppb
            或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn)
            ≤1000 ppm
            = ±10%
            線性測(cè)量范圍高達(dá) 10,000 ppb高達(dá) 30,000 ppm
            樣品流量 (ppm)1.4-2.4
            響應(yīng)時(shí)間 (T??, T??)10秒

            GLA231-HFHC & HF

            項(xiàng)目(氣體)HCl**HFH?O
            精度 (1σ)<0.3 ppb (1秒)
            <0.1 ppb (10秒)
            <0.035 ppb (100秒)
            <0.1 ppb (1秒)
            <0.05 ppb (10秒)
            <0.025 ppb (100秒)
            <25 ppm (1秒)
            <10 ppm (10秒)
            <5 ppm (100秒)
            檢測(cè)限 (LOD)0.1 ppb (100秒)0.075 ppm (100秒)25 ppm (100秒)
            準(zhǔn)確性 *±0.15 ppb
            或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn)
            ±0.1 ppb
            或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn)

            >7000 ppm

            = 1% FSD

            不同分析儀的結(jié)果差異
            (相對(duì)于平均值,10秒)
            ±0.2 ppb
            或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn)
            ±0.2 ppb
            或讀數(shù)的5%,以較高者為準(zhǔn)
            ≤ 1000 ppm
            = ±10%
            線性測(cè)量范圍高達(dá) 2,000 ppb高達(dá) 2,000 ppb高達(dá) 30,000 ppm
            樣品流量 (ppm)1.1-1.9

            響應(yīng)時(shí)間 (T??, T??)25秒25秒

            * 適用于典型的半導(dǎo)體晶圓廠,在設(shè)定的19°C和23°C溫度范圍內(nèi),在至少1小時(shí)內(nèi),變化范圍在±1°C。
            ** HCl測(cè)量?jī)H適用于GLA231-HFHC型號(hào)的分析儀。

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